[书籍] 等离子体浸泡式离子注入与沉积技术
出版社:
国防工业出版社
简介:
《等离子体浸泡式离子注入与沉积技术》介绍了用于材料表面改性的等离子体浸泡式离子注入与沉积（PⅢD）技术。主要内容包括PHID技术发展概况、基础理论、PⅢD设备关键部件设计、PⅢD鞘层动力学计算机理论数值模拟与应用以及机械零件的PⅢD复合、批量处理工艺与应用等。《等离子体浸泡式离子注入与沉积技术》也给出了PⅢD技术最新进展与研究成果。
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